狭缝式涂布试验机产品简介

      AT-XTB系列狭缝式涂布试验机由山东安尼麦特仪器有限公司精心研制高精度精密型涂布试验机，主要应用于狭缝挤出式涂布，应用范围广泛，包括:有机光伏电池,有机场效应晶体管,导电聚合物,纳米线和纳米管,二维材料,有机发光二极管和钙钛矿发光二极管,钙钛矿光伏电池,锂离子电池的电解质和电极,染色敏感性太阳能电池.

      由于常规实验室涂布试验机，受到刮刀调节，底板平整度等的影响很难达到涂布纳米级膜。狭缝式涂布试验机底板采用多种平台方式包括检验级大理石平台，真空吸附平台，精密模具钢平台，玻璃平台等，同时采用非接触式狭缝式涂布头，通过进料压力，狭缝宽度调节，以及狭缝头与底板间隙三个因数控制湿膜厚度，同时高配版涂布机软件系统增加了高度调节与反馈系统，大大提高了涂布精度与均匀性。湿膜厚度可以达到1微米，干膜厚度可以达到纳米级别。在国内光学膜涂布实验室研发打样阶段得到了广泛的应用。

狭缝式涂布试验机主要技术参数

1.狭缝挤出头材质：不锈钢

2.狭缝挤出头涂布宽度：20-100mm

3.狭缝挤出垫片厚度:100 μm

3.狭缝挤出垫片套装:   20 25 30 50  100mm垫片

4.电热板温度:120°C  （无）

5.行程长度:10-300mm   

6.运动方式：刮刀运动  

7.最低平台速度:  10mm/min

8.平台材质:大理石平台

9.加料方式：注射器  

10.最低注射器速度:12 μm/s

11.最高注射速度:5 mm/s

12.涂布头与基片之间最大活动距离:15 mm

13.管道和接头材质:聚四氟乙烯管，不锈钢鲁尔接口连接器至螺纹连接件

14.电源参数：100 - 240 V 50Hz

15.动力系统：伺服电机

16.试样展平方式：展平辊

17.尺寸规格:380 mm x 330 mm x 220 mm   （特殊尺寸可定做）

18.重量：35kg